技术指标 
分辨率： 高真空模式：1.0nm (15KV) ； 低真空模式：1.5nm (10KV)；
加速电压：200V～30kV；
样品台移动范围：X=Y=100mm；  
样品台：五轴驱动，精度100nm。 

技术参数
分辨率: 高真空(二次电子3.0nm at 30kv，8.0nm at 3kv) 低真空(低真空二次电子)﹕3.5 nm at 30 kV
放大倍数:2.5 to 1000000× 真空系统:高真空<9*10 -3Pa， 加速电压0.2kV to 30Kv 电子束电流1pA—2uA
样品室内部尺寸:230mm(width)×148mm(depth)
样品台:全自动控制 

主要功能
金属、非金属、生物等各种样品的纳米尺度的形貌分析； 微区成分分析； 微区取向、微观织构分析，晶体结构分析，物相分析等。

联系人： 黄天林  覃丽禄  刘莹莹     电话：023-65106001 地址： 重庆大学综合实验大楼115室